| 品牌 | 銘泉 |
|---|---|
| 型號 | 618 |
A.本產(chǎn)品是專為多層鎳電鍍工藝而研發(fā)的半光亮鎳電鍍添加劑。
B、采用進口原料配制，不含香豆素等成份，分解產(chǎn)物少。平常使用基本單一補充，維護方便。
C、鍍層物理性能優(yōu)越，基本不含硫，與光亮鎳之間電位差穩(wěn)定（≥125MV）。
D、鍍層內(nèi)應力低，出光度快、亮度均勻、平整性高、鍍層接近全光亮。 工藝配方及操作條件
| 工藝范圍 | **工藝 | |
| **鎳 | 200～300g/L | 280g/L |
| 氯化鎳 | 35～50g/L | 45g/L |
| 40～45g/L | 40g/L | |
| 半光亮鎳開港劑 | 8～12mI/L | 10mI/L |
| 半光亮鎳光亮劑 | 0.3～0.6mI/L | 0.4mI/L |
| 半光亮鎳輔助劑 | 1～3mI /L | 2mI/L |
| PH | 3.8～4.8 | 4.2 |
| 溫度 | 50～60℃ | 55℃ |
| 電壓 | 12～16ⅴ | 12~16ⅴ |
| 攪拌 | 空氣或機械攪拌 | |
A、用總體積2/3的溫水溶解計算量的**鎳及氯化鎳；
B、用80℃以上熱水或沸水溶解并加入上述溶液；
C、用碳酸鎳或5%氫化鈉調(diào)整PH值5.2左右,加入1~2ｍI/L雙氧水攪拌1-2小時后,升溫至70℃以上,再加入1-2g/的活性碳攪拌1小時,靜置12小時以上后過濾.
D、用稀**調(diào)整PH值至4.2左右,小電流電解數(shù)小時后加入配方量的光澤劑(添加劑)即可試鍍 四、光亮劑作用 1、半光亮鎳開缸劑主要是起開缸作用,新配鍍液時一次加入足量,平常操作基本不添加.在配合光亮劑和輔助劑的同時,具有抗雜作用,能有效隱蔽銅鐵等金屬雜質.平?；静幌?只是隨工件帶出量每日應補充開缸量的1/20,以保證溶液之完好性。
2、半光亮鎳光亮劑主要是保證平時工作之正常,平衡消耗,補充量隨工件表面狀態(tài),光亮度及平整度的要求而有差異,在使用較低電流密度時,補充量要較高些, 消耗量一般為250~300ml/KAH。 3、半光亮鎳輔助劑是專門用與調(diào)整電位差的電位差調(diào)節(jié)劑．要求有較高耐腐蝕能力的鍍層時按80~150ml/KAH補充。
五、工藝流程
除油→水洗→水洗→ 除銹→水洗→活化→半光亮鎳→水洗→ 水洗→高硫鎳→ 水洗→ 水洗→光亮鎳→水洗→水洗→鍍鉻→水洗→水洗→干燥
六、注意:
為保證多層鎳電鍍工藝中鍍層的耐腐蝕性能不受影響,請勿將高硫鎳光亮鎳溶液等含硫物質帶入半光亮鎳溶液中!!!